빔 스플리터 나눕니다 또는 결합 빔 원하는 투과율과 반사율 있는 가용성 파장 지역 또는 나눕니다 빔 빛을 P 분극 S 분극.
기판: 융합 실리카, BK7
표면: <λ/10 @ 632.8nm
표면 품질: 40-20
모따기: 0.5mm × 45 °
코팅: 전자빔 증착 유전체: 레이어
사건: 0 °,45 °
레이저 유도 손상 임계값: >5J/cm2 (1.06μm,1ns)
입사각은 | 파장 (Nm) | Tave/레이브 | 분리 | Tp/Rp | 공차 |
Tp/Rp | |||||
45 ° | 510-500 | 50/50 | ± 3% | ||
45 ° | 780 | 50/50 | ± 3% | ||
45 ° | 632.8 | 50/50 | ± 3% |
기판 융합: 실리카, BK7
표면: <λ/10 @ 632.8nm
표면 품질: 40-20
편광: Tp≥ 96%; Ts≤ 1%
멸종 비율: Tp:Ts>100:1
파장 범위: 보이는 적외선
파장 (nm) | 파장 (nm) |
20/25.4/30 | 780 |
20/25.4/30 | 1064 |
20/25.4/30 | 1310 |
20/25.4/30 | 1550 |
기판: 융합 실리카, BK7
표면: <λ/10 @ 632.8nm
표면 품질: 40-20
모따기: 0.5mm × 45 °
코팅: 전자빔 증착 유전체: 레이어
사건: 0 °,
레이저 유도 손상 임계값: >5J/cm2 (1.06μm,1ns)
입사각은 | TWavelength (Nm) | 전송 | RWavelength | 반사율 |
0 ° | 808 | > 90% | 946 | > 99.5% |
0 ° | 808 | > 90% | 1064 | > 99.5% |
0 ° | 808 | > 90% | 1320 | > 99.5% |
0 ° | 940 | > 90% | 1030 | > 99.5% |
기판: 융합: 실리카, BK7
표면: <λ/10 @ 632.8nm
표면 품질: 40-20
모따기: 0.5mm × 45 °
코팅: 전자빔 증착 유전체: 레이어
사건: 0 ° ± 2 °
편광: Tp≥ 98%; Ts≤ 0.2%
멸종 비율: Tp:Ts>500:1
AR 코팅: R<0.25%