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유전체 거울
유전체 거울
광학 거울

유전체 거울

브래그 미러라고도 알려진 유전체 미러는 일반적으로 유리 기판이나 기타 광학 재료 위에 증착된 여러 개의 얇은 유전체 재료 층으로 구성된 미러 유형입니다. 유전체 층의 유형과 두께를 신중하게 선택하면 다양한 빛의 파장에서 특정 반사율을 갖는 광학 코팅을 설계할 수 있습니다.

주요 특징
  • 높은 반사율 및 낮은 손실
    높은 반사율 및 낮은 손실

    이것이 핵심 장점입니다. 특정 파장(예: 532nm, 1064nm, 1550nm)에서 반사율은 쉽게 99.9%를 초과할 수 있으며 흡수 손실은 0.01% 미만입니다.

  • 높은 레이저 손상 임계값
    높은 레이저 손상 임계값

    흡수율이 매우 낮기 때문에 열이 거의 발생하지 않아 극도로 높은 레이저 출력 밀도를 견딜 수 있습니다. 이로 인해 유전체 거울은 고출력 레이저 절단, 용접, 마킹 시스템에서 빔 조정 및 포커싱을 위한 핵심 구성 요소가 됩니다.

  • 설계 유연성
    설계 유연성

    코팅의 두께와 재질을 조정하여 유전체 거울은 특정 파장(협대역) 또는 특정 대역(광대역)에서 작동하도록 정밀하게 설계할 수 있습니다.

  • 편광 감도
    편광 감도

    특히 비수직 입사에서 빛의 편광 상태에 민감합니다. S선과 P선의 반사율이 다르기 때문에 정밀 광학 설계에 특별한 주의가 필요합니다.

사양 유전체 거울
구조평면, 구, 원통 또는 맞춤형 모양
기판용융 실리카/실리카/BK7 유리
차원2mm~100mm
명확한 조리개>치수의 90%
표면 품질40/20, 20/10 스크래치 발굴
표면 불규칙성λ/2~λ/10 @632.nm
두께1mm~20mm
코팅UV/VIS 유전체 코팅
일반적인 적용 분야
  • 레이저 공진 공동
    레이저 공진 공동
    유전체 미러는 레이저 공진 공동에서 고반사율 미러(엔드 미러) 및 출력 미러 역할을 합니다. 헬륨-네온 레이저, 고체 레이저(예: Nd:YAG), 섬유 레이저, 반도체 레이저를 포함한 모든 유형의 레이저는 유전체 거울을 사용하여 진동을 생성합니다.
  •  고출력 레이저 가공
    고출력 레이저 가공
    유전체 거울은 고출력 레이저 빔을 지향하고, 초점을 맞추고, 확장하는 데 사용됩니다. 흡수 손실이 극도로 낮기 때문에 열이 거의 발생하지 않으므로 열 렌징이나 손상 없이 킬로와트 및 심지어 메가와트 범위의 연속 레이저 출력을 견딜 수 있습니다.
  • 광통신 및 광섬유 감지
    광통신 및 광섬유 감지
    광통신에는 다양한 파장(예: 1550nm)의 신호를 정밀하게 분리하거나 결합하는 것이 필요합니다. 예: 데이터 센터 및 백본 네트워크의 광학 모듈, 광섬유 브래그 격자의 보조 구성 요소.
  • 정밀 측정 및 과학 연구
    정밀 측정 및 과학 연구
    Fabry-Perot 간섭계, 중력파 검출기 및 광학 시계와 같은 정밀 광학 공동 구축. 이러한 응용 분야에서는 반사율이 높은 두 개의 거울 사이에서 빛이 수만 번 앞뒤로 반사되어야 하며 99.999% 또는 심지어 99.9999%(ppm 단위의 손실)의 반사율이 요구됩니다. 초저손실 초유전체 거울만이 이 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
  • AR/VR
    AR/VR
    증강 현실/가상 현실(AR/VR) 헤드셋, 소형 프로젝터 및 3D 스캐너.
  • 분광학 및 생물의학
    분광학 및 생물의학
    핵심 역할: 라만 분광계 및 유세포 분석기의 레이저 필터링 및 빔 조작. 구체적인 예: 공초점 현미경 및 유전자 시퀀서의 광학 시스템.
상표:


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